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全球及中国电子束曝光系统（EBL）行业调研和投资前景分析报告-2015-2026

来源：研精毕智市场调研网时间：2020-12-03

电子束曝光系统EBL，又称电子束暴光系统是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity Lithography Systems公司是最早研发了基于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置（Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统，简称NPGS，又称电子束微影系统）。2019年，全球电子束曝光系统 (EBL)市场规模达到了11亿元。

研精毕智市场调研网隶属于（英文简称：XYZResearch），是国内领先的行业研究及企业研究服务供应商。通过有效分析复杂数据和各类渠道信息，助力客户深入了解所关注的细分市场，包括市场空间、竞争格局、市场进入策略、用户结构等，包括深度研究目标企业组织架构，市场策略、销售结构、战略规划等，帮助企业做出更有价值的商业决策。

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